岗位职责:
1. 工艺开发与优化:负责SiN、SiO2等介质膜层或金属膜层沉积工艺的开发、优化与持续改进,确保产品工艺符合设计要求;
2. 工艺监控与异常处理:负责膜层沉积工艺的日常监控、异常排查与问题处理,保障机台膜层沉积工艺的稳定性;
3. 数据分析与报告:对膜层厚度、折射率、应力等关键指标进行统计分析,监控工艺稳定性,编写技术报告并提出改进建议;
4. 产品开发支持:参与新产品从设计输入到样品交付的全流程,提供膜层沉积工艺方面的技术支持,协作完成工艺流程文件、操作规范及工艺参数配方的编制与优化。
任职要求:
1. 全日制硕士(特别优秀者可放宽要求),半导体、微电子、光学等相关专业;
2. 3年以上半导体行业膜层沉积工艺经验,熟悉SiN、SiO2、金属等半导体材料沉积工艺;
3. 熟悉半导体表征仪器使用,具备数据分析与总结能力;
4. 具备良好的问题解决能力、沟通技巧、团队合作精神,工作积极主动。